Implantarea ionică

Extras din proiect Cum descarc?

Ce este implantarea ionica, pe scurt?
Implantarea ionica reprezinta bombardarea unei tinte solide cu un fascicul de ioni energetic (tipic 1keV - 1MeV) => ionii patrund prin material, incetinesc cu transferandu-si energia catre atomii / electronii tinta si oprindu-se in cele din urma la o anumita adancime (~ 0-1um) sub suprafata.
Este practic o tehnica de prelucrare a suprafetei sau aproape de suprafata. Datorita interactiunilor lor mai puternice cu atomii tinta, ionii patrund mult mai putin in materie decat electronii, pentru aceeasi energie.
Gama proiectata de particule incarcate - electroni, protoni, particule alfa, ioni grei - in siliciu
Radiatiile electromagnetice (Raze X sau ?) si particulele neutre (neutroni) interactioneaza mult mai putin cu atomii tinta si au intervale de penetrare mult mai lungi (> cm) -  rezultand un proces global.
De ce implantarea ionilor?
-Pentru a modifica / imbunatati proprietatile (fizice, chimice) ale materialelor intr-un strat de suprafata subtire (50nm-1um)
-Modificarile au loc din cauza ca (principalele motive):
1) implantam specii chimice diferite de tinta, care, desi intr-o cantitate totala mica, pot ajunge totusi la concentratii relativ ridicate pe a scara microscopica (modificare chimica);
2) iradierea ionica dauneaza structurii tintei, generand radiatii defecte, schimbari de faza, indepartarea atomului etc. (modificare structurala).
De ce avem nevoie pentru a efectua implantarea ionica?
- Producerea unui fascicul de ioni (sursa de ioni);
- Selectarea dintre atomii fasciculului doar speciile chimice pe care dorim sa le implantam (filtru de masa magnetica);
- Acceleratia ionilor la energia dorita (coloana de acceleratie);
- Aducerea fasciculului de ioni pentru a atinge suprafata materialului tinta (linia fasciculului: lentile ionice, scaner de fascicule, capcana neutra, ...).

Fisiere în arhivă (1):

 Implantarea ionica.docx

Imagini din acest proiect Cum descarc?